[发明专利]一种大尺寸清洁石墨烯材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 202011034039.7 申请日: 2020-09-27
公开(公告)号: CN112174121B 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 高学栋;冯志红;蔚翠;何泽召;刘庆彬;郭建超;周闯杰 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: C01B32/186 分类号: C01B32/186
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 李坤
地址: 050051 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种大尺寸清洁石墨烯材料的制备方法。所述制备方法包括如下步骤:采用化学气相沉积法在金属衬底表面生长石墨烯层;采用电子束蒸发法在石墨烯层上形成可与石墨烯形成低范德华力结合的金属层;在所述金属层上形成光刻胶层;将含胶软膜粘附在所述光刻胶层表面,剥离所述金属层和光刻胶层。本发明提供的制备大尺寸清洁石墨烯的方法,无需特殊控制操作环境的,独创性地利用材料界面间的范德华力的差异,实现了大尺寸石墨烯表面无定形碳的剥离,将石墨烯表面处理至原子级的洁净,对于扩大石墨烯在光电领域的应用具有重要意义。
搜索关键词: 一种 尺寸 清洁 石墨 材料 制备 方法
【主权项】:
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