[发明专利]谐振器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202011040491.4 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN114337584A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 李伟;黄河;罗海龙 申请(专利权)人: 中芯集成电路(宁波)有限公司
主分类号: H03H9/17 分类号: H03H9/17;H03H3/02;H03H9/02
代理公司: 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 代理人: 吴凡
地址: 315800 浙江省宁波市北*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种谐振器及其形成方法,谐振器的形成方法包括:提供压电叠层结构,压电叠层结构包括第一区域和环绕第一区域的第二区域,压电叠层结构具有第一面和与第一面相背的第二面;在压电叠层结构的第一面上形成第一介电层;提供第一衬底,所述第一衬底的顶部具有顶部掺杂区;将第一介电层和第一衬底的顶部相键合;在压电叠层结构的第二面上形成第二介电层;刻蚀第二区域的第一介电层、压电叠层结构以及第二介电层,形成露出顶部掺杂区的第一开口和第二开口;在第一开口和第二开口中分别形成第一插塞和第二插塞。在谐振器工作时,第一插塞用于将后段的静电流引致第一衬底上,快速将肖特基二极管击穿,将后段的静电释放掉,有利于提高谐振器的电学性能。
搜索关键词: 谐振器 及其 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯集成电路(宁波)有限公司,未经中芯集成电路(宁波)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011040491.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top