[发明专利]一种碳化硅晶片的多线切割系统及切割方法在审

专利信息
申请号: 202011043570.0 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN112140375A 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 张德;刘鑫博;孟国天 申请(专利权)人: 中电化合物半导体有限公司
主分类号: B28D5/04 分类号: B28D5/04;B28D7/02;B28D7/00
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 林凡燕
地址: 315336 浙江省宁波市杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种碳化硅晶片的多线切割系统及切割方法,其中,所述碳化硅晶片的多线切割系统,包括:固定平台;切割平台,与所述固定平台连接,所述切割平台用于将碳化硅晶体切割成碳化硅晶片;张力调控机构,通过钢线网与所述切割平台连接,所述张力调控机构用于调节所述钢线网的张力;切削液喷嘴,连接在所述固定平台上,所述切削液喷嘴用于将切削液喷洒到所述切割平台上;循环监控池,与所述切割平台连接;冷却系统,与所述切割平台和所述循环监控池连接。本发明能够提高晶片质量,有利于统一碳化硅晶片的面型。
搜索关键词: 一种 碳化硅 晶片 切割 系统 方法
【主权项】:
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