[发明专利]一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法有效
申请号: | 202011049798.0 | 申请日: | 2020-09-29 |
公开(公告)号: | CN112230322B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 苏炎;李昱;陈居凯 | 申请(专利权)人: | 苏州众为光电有限公司 |
主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/06;C23C14/54 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 孔凡玲 |
地址: | 215000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法,包括:切割基层成型;镀前对基层进行超声波清洗;进行膜系设计;其中,膜系设计中堆叠在基层上的膜系的膜系结构包括若干个法布里‑帕罗腔及连接层,每个法布里‑帕罗腔通过连接层级联下一个法布里‑帕罗腔,连接层为非四分之一波长的光学厚度的低折射率层;根据膜系设计对每一膜层进行膜层厚度控制并镀膜;对镀制好的带通滤光片进行测试得到合格的带通滤光片。本发明能够制备插损线性变化的带通滤光片,该带通滤光片具备常规的滤光功能以外,该带通滤光片的通带插损或透过率具有线性变化,在通带内实现了在特定的波长范围内插损随波长是线性变化的,在特定的波长范围内实现波长识别的功能。 | ||
搜索关键词: | 一种 线性 变化 滤光 制备 方法 | ||
【主权项】:
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