[发明专利]具有受控超调的高速高带宽垂直腔面发射激光器在审

专利信息
申请号: 202011050268.8 申请日: 2020-09-29
公开(公告)号: CN112600073A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: I·卡利法;E·门托维奇 申请(专利权)人: 迈络思科技有限公司
主分类号: H01S5/187 分类号: H01S5/187;H01S5/183
代理公司: 北京天澜智慧知识产权代理有限公司 11558 代理人: 尚继栋;师琦
地址: 以色列*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种垂直腔面发射激光器(VCSEL)。VCSEL包括设置在基板上的台面结构。所述台面结构包括第一反射器、第二反射器,以及设置在所述第一反射器和第二反射器之间的有源腔材料结构。所述第二反射器具有从所述第二反射器的第二表面延伸至所述第二反射器预定深度的开口。蚀刻到所述第二反射器中至所述预定深度减少了光子寿命和VCSEL的阈值增益,同时增加了调制带宽并保持了所述第二反射器的高反射率。因此,将所述第二反射器蚀刻至所述预定深度可以改善所述VCSEL的超调控制、更宽的调制带宽和更快的脉冲,使得所述VCSEL可以提供具有受控超调的高速、高带宽信号。
搜索关键词: 具有 受控 高速 带宽 垂直 发射 激光器
【主权项】:
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