[发明专利]光罩箱、保管装置及方法、搬送装置及方法、及曝光装置在审
申请号: | 202011052246.5 | 申请日: | 2016-01-22 |
公开(公告)号: | CN112162461A | 公开(公告)日: | 2021-01-01 |
发明(设计)人: | 吹田文吾;向井干人 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;G03F7/20;B65G49/07 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王娟娟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种光罩箱,能够保管于保管装置,且包括第一箱部和第二箱部,该第一箱部具有设置有支承光罩的支承部的底面,该第二箱部设置成能够相对于第一箱部装拆,并具有与底面相对配置的上表面,第二箱部具有在保持于保管装置时使用的保持部,保持部包括:第一光通过部,在安装于第一箱部的第二箱部位于被保管于保管装置的第一位置时,光通过第一光通过部;和与第一光通过部不同的第二光通过部,在从第一箱部拆下的第二箱部的保持部位于被保持于保管装置的第二位置时,光通过第二光通过部。 | ||
搜索关键词: | 光罩箱 保管 装置 方法 曝光 | ||
【主权项】:
暂无信息
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- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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