[发明专利]一种覆层、具有该覆层的金属磁体及该覆层的制备方法有效

专利信息
申请号: 202011055785.4 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN112176286B 公开(公告)日: 2022-07-15
发明(设计)人: 施林舍;傅东辉;叶瀚棽 申请(专利权)人: 福建省长汀金龙稀土有限公司
主分类号: C23C14/16 分类号: C23C14/16;C23C14/58;C23C14/32;C23C14/35;C25D13/06;C09D163/00;C09D7/61;C09D7/63;C09D5/25;H01F1/057;H01F41/02
代理公司: 江苏瑞途律师事务所 32346 代理人: 吴雪健
地址: 366300 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种覆层、具有该覆层的金属磁体及该覆层的制备方法,属于金属磁体处理技术领域。它包括覆层覆于金属磁体表面,其沿远离金属磁体方向依次包括金属膜层、金属膜氧化层和绝缘层。本发明通过设计三层结构的覆层,使用金属氧化膜替代传统的磷化或简单底涂,可以防止传统磷化或底涂物料的基体生锈和发黄的问题,从而极大提升覆层的耐腐蚀性能;同时氧化产生的氧化层或钝化层为多孔致密表面积较大的导电层,其粗糙多孔的结构可以与后续的绝缘层充分接触,提升覆层的结合力、表面涂层均匀性、外观一致性,另外由于覆层导电可解决金属磁体电泳时不连续导电的问题,能够电泳附着绝缘层。本发明制备工艺简便经济,具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 覆层 具有 金属 磁体 制备 方法
【主权项】:
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