[发明专利]黑矩阵结构及其制造方法、显示基板、显示装置在审
| 申请号： | 202011064189.2 | 申请日： | 2020-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN114333567A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 刘弘;徐敬义;刘鹏;张永强;李波;霍培荣 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30;G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开一种黑矩阵结构及其制造方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域。该黑矩阵结构包括交叉的多个黑矩阵条，该黑矩阵条的侧面的粗糙度小于2微米，该黑矩阵条的侧面与参考平面相交，该参考平面与该多个黑矩阵条交叉限定的平面平行。本申请提供的黑矩阵结构中黑矩阵条的侧面的粗糙度较小，能够适用于分辨率要求较高的显示装置。 | ||
| 搜索关键词： | 矩阵 结构 及其 制造 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
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