[发明专利]一种PBn型InAsSb红外探测器材料在审

专利信息
申请号: 202011065080.0 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN112331738A 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 邓功荣;杨文运;龚晓霞;肖婷婷;杨绍培;宋欣波;范明国;袁俊;赵鹏;黄晖 申请(专利权)人: 昆明物理研究所
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0224;H01L31/0304;H01L31/18
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 周蜜
地址: 650223 *** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种PBn型InAsSb红外探测器材料,属于光电子材料与器件技术领域。所述材料的结构从上向下依次为100nm~300nm厚的顶电极接触层、100nm~200nm厚的势垒层、2000nm~3000nm厚的吸收层、200nm~500nm厚的底电极接触层、50nm~200nm厚的缓冲层以及衬底。所述材料制成的红外探测器暗电流小,探测器的背景限温度提高,降低了红外探测器组件对制冷的要求,以此减小整体的体积、重量、功耗以及成本,可以提升系统可靠性,延长系统寿命。
搜索关键词: 一种 pbn inassb 红外探测器 材料
【主权项】:
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