[发明专利]一种高速激光均匀雕刻的方法在审

专利信息
申请号: 202011065154.0 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN112192032A 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 孙帅华;洪汉明;肖成柱 申请(专利权)人: 深圳市睿达科技有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362
代理公司: 深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙) 44324 代理人: 王志强
地址: 518000 广东省深圳市南山区招商街道沿*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:步骤1,确认雕刻路径;步骤2,正向激光雕刻;步骤3,反向激光雕刻;步骤4,雕刻完成,激光雕刻装置从下一条雕刻路径的首端开始,按照步骤2和步骤3中的正向激光雕刻和反向激光雕刻的激光雕刻方式,依次激光雕刻其余的雕刻路径,直至雕刻区域内所有的雕刻路径全部激光雕刻完成。在该激光雕刻的方法中,通过激光雕刻装置在雕刻路径上的匀速激光雕刻,使得激光雕刻过程中速度均匀,雕刻得线条均匀,使得激光雕刻效果更好。避免了现有技术的在雕刻过程中因速度不均匀所产生的雕刻效果差的问题。
搜索关键词: 一种 高速 激光 均匀 雕刻 方法
【主权项】:
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