[发明专利]磁光测量设备在审
| 申请号： | 202011071769.4 | 申请日： | 2020-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN112649371A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 世古畅哉 | 申请（专利权）人： | 天马日本株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/17 | 分类号： | G01N21/17;G01N21/21 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华;何月华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种磁光测量设备，包括：光源；薄膜传感器，其包括磁性膜并且反射来自光源的光；磁场产生装置，其对薄膜传感器施加磁场；以及控制器。磁场产生装置被配置为向薄膜传感器交替地提供正磁场和负磁场。控制器被配置为：测量在正磁场下被薄膜传感器反射的光量；测量在负磁场下被薄膜传感器反射的光量；根据在正磁场下测量的值和在负磁场下测量的值，确定一个或多个回归公式；以及基于一个或多个回归公式确定特定输出值。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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