[发明专利]超导磁体结构中的分层线圈区段之间的间隔件的用途在审
| 申请号： | 202011074618.4 | 申请日： | 2020-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN112649776A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 武安波;白烨;徐民风;保罗·圣马克·沙福思·汤普森;马克·欧内斯特·韦尔米尔亚;迈克尔·帕里什 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G01R33/565 | 分类号： | G01R33/565;G01R33/34;G01R33/385;G01R33/48;A61B5/055 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;钱慰民 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明题为“超导磁体结构中的分层线圈区段之间的间隔件的用途”。本发明描述了一种磁共振成像设备，所述磁共振成像设备包括用于生成磁场的多个磁线圈。另外，所述磁共振成像设备可包括在一些或所有所述磁线圈(例如，主磁线圈(28,204)、反磁线圈(32,202)等)内的一个或多个径向间隙，径向间隔件(303,403)可定位在所述一个或多个径向间隙中，以有助于在操作期间保持所述主磁线圈(28,204)的磁等中心(206)的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 超导 磁体 结构 中的 分层 线圈 区段 之间 间隔 用途 | ||
【主权项】：
暂无信息
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