[发明专利]场发射阴极及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011075453.2 申请日: 2020-10-09
公开(公告)号: CN112053925A 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 洪序达;梁栋;郑海荣 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: H01J1/304 分类号: H01J1/304;H01J9/02
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;黄进
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种场发射阴极,其包括导电基板以及形成在所述导电基板上的Ti3C2纳米片薄膜层。所述场发射阴极的制备方法包括:提供导电基板;配制Ti3C2纳米片分散液;将所述Ti3C2纳米片分散液涂覆于所述导电基板上,在所述导电基板上形成Ti3C2纳米片薄膜层。本发明提供的场发射阴极,能够更好的抵御阳离子的轰击破坏而保持结构的完整,获得更加稳定的发射电流,并且该场发射阴极的制备方法具有工艺流程简单、工艺条件易于实现的优点,有利于大规模的工业化应用。
搜索关键词: 发射 阴极 及其 制备 方法
【主权项】:
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