[发明专利]一种基于MEMS微器件制造的电化学沉积镀槽在审
申请号: | 202011076105.7 | 申请日: | 2020-10-10 |
公开(公告)号: | CN112195495A | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 王慧颖;谢立东;陈文国;王瑞;孔德剑 | 申请(专利权)人: | 曲靖师范学院 |
主分类号: | C25D17/02 | 分类号: | C25D17/02;C25D17/00;C25D21/18;C25D21/10;C25D21/12;C25D21/04;C25D5/00;C25D7/12 |
代理公司: | 云南省曲靖市专利事务所 53104 | 代理人: | 周厚明 |
地址: | 655011 云南*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于电化学沉积技术领域,具体涉及一种基于MEMS微器件制造的电化学沉积镀槽,包括外镀槽体和内镀槽体。外镀槽体为顶部开口的圆柱形腔体,外镀槽体底部连接有回流管,回流管上连接有泵,泵上连接有进/出液管。内镀槽体为顶部开口底部为弧形的圆柱形腔体,内镀槽体置于外镀槽体内,内外镀槽体顶部密封固定,外镀槽体内壁与内镀槽体外壁形成一密封腔体,槽体顶部设有密封盖。内镀槽体底部与泵连接,内镀槽体内设有桨叶、遮蔽板、振荡器、阴极板和阳极板,内镀槽体内设有阴极排液口和阳极排液口,密封盖上设有真空计和抽真孔。有益效果:循环利用镀液、节省资源,镀件表面镀层更加均匀平整、光滑。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 mems 器件 制造 电化学 沉积 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于曲靖师范学院,未经曲靖师范学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011076105.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。