[发明专利]一种基于MEMS微器件制造的电化学沉积镀槽在审

专利信息
申请号: 202011076105.7 申请日: 2020-10-10
公开(公告)号: CN112195495A 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 王慧颖;谢立东;陈文国;王瑞;孔德剑 申请(专利权)人: 曲靖师范学院
主分类号: C25D17/02 分类号: C25D17/02;C25D17/00;C25D21/18;C25D21/10;C25D21/12;C25D21/04;C25D5/00;C25D7/12
代理公司: 云南省曲靖市专利事务所 53104 代理人: 周厚明
地址: 655011 云南*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明属于电化学沉积技术领域,具体涉及一种基于MEMS微器件制造的电化学沉积镀槽,包括外镀槽体和内镀槽体。外镀槽体为顶部开口的圆柱形腔体,外镀槽体底部连接有回流管,回流管上连接有泵,泵上连接有进/出液管。内镀槽体为顶部开口底部为弧形的圆柱形腔体,内镀槽体置于外镀槽体内,内外镀槽体顶部密封固定,外镀槽体内壁与内镀槽体外壁形成一密封腔体,槽体顶部设有密封盖。内镀槽体底部与泵连接,内镀槽体内设有桨叶、遮蔽板、振荡器、阴极板和阳极板,内镀槽体内设有阴极排液口和阳极排液口,密封盖上设有真空计和抽真孔。有益效果:循环利用镀液、节省资源,镀件表面镀层更加均匀平整、光滑。
搜索关键词: 一种 基于 mems 器件 制造 电化学 沉积
【主权项】:
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