[发明专利]一种沟槽型肖特基二极管器件在审
申请号: | 202011076765.5 | 申请日: | 2020-10-10 |
公开(公告)号: | CN112271220A | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 倪炜江 | 申请(专利权)人: | 倪炜江 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/06 |
代理公司: | 北京邦创至诚知识产权代理事务所(普通合伙) 11717 | 代理人: | 张宇锋 |
地址: | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及半导体技术领域,尤其是涉及一种沟槽型肖特基二极管器件,所述器件的有源区有多个原胞并联而成,在一个基本原胞中,包括处于正交排列的沟槽与p+层,即所述沟槽与所述p+层的方向是垂直的;在一个原胞中,沿着垂直于纸面的纵深方向依次为结构A和结构B,其中,所述结构A为纯沟槽肖特基二极管结构,所述结构B为pn二极管结构。对于n型导电器件,本发明器件原胞中通过相反类型的掺杂形成p+区与沟槽的正交形式的排列,实现对沟槽和肖特基接触的电场屏蔽,降低器件的反偏漏电流。同时通过沟槽内及台面上的不同势垒的肖特基接触,降低器件的开启电压和导通电阻。 | ||
搜索关键词: | 一种 沟槽 型肖特基 二极管 器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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