[发明专利]一种用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂及其制备方法在审
| 申请号： | 202011081860.4 | 申请日： | 2020-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN112175393A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 徐力群;刘飞;彭文平;任杰;义贤富;陈双彬;邱里勇;陈欣杰 | 申请（专利权）人： | 浙江佳华精化股份有限公司 |
| 主分类号： | C08L83/04 | 分类号： | C08L83/04;C08L83/10;C08K9/06;C08K3/22;C08L33/12 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 连平 |
| 地址： | 312367 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂及其制备方法，该用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂包括以下组分：纳米二氧化锆40～70份；改性聚硅氧烷10～30份；长链烷基聚硅氧烷20～50份。本发明还公开了一种耐刮擦PMMA复合材料。该耐刮擦剂可有效改善PMMA表面的耐刮擦性能，且长效稳定性高，使制件保持长久优异的表面光泽度，另外可以有效提高PMMA的脱模等其他综合性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 高光免 喷涂 pmma 耐刮擦剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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