[发明专利]半导体元件及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202011082872.9 申请日: 2017-09-22
公开(公告)号: CN112436004A 公开(公告)日: 2021-03-02
发明(设计)人: 许得彰;陈俊嘉;王尧展 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L29/78;H01L21/8234
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种半导体元件及其制作方法,其中该半导体元件主要包含一栅极结构设于基底上、一偏位间隙壁设于该栅极结构旁、一主侧壁环绕该偏位间隙壁、一源极/漏极区域设于主间隙壁两侧、一接触洞蚀刻停止层设于该主间隙壁旁以及一层间介电层环绕该接触洞蚀刻停止层,其中该偏位间隙壁的介电常数大于该主间隙壁的介电常数。
搜索关键词: 半导体 元件 及其 制作方法
【主权项】:
暂无信息
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