[发明专利]一种高屏蔽效能ITO膜的制造工艺及其设备在审
申请号: | 202011085374.X | 申请日: | 2020-10-12 |
公开(公告)号: | CN112267094A | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 姜建峰 | 申请(专利权)人: | 赫得纳米科技(昆山)有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/56;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/06;B01D46/00;B01D46/24 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种高屏蔽效能ITO膜的制造工艺及其设备,主要包括外框、电热器、真空机、过滤器和基板架,所述外框顶端中部固定安装有顶壳,顶壳内侧固定安装有电热器,电热器底端装配安装有原料盒,所述外框左侧转动安装有密封门。本发明涉及一种高屏蔽效能ITO膜的制造工艺及其设备,通过内设的灵活基板架,配合紧凑的驱动机械结构,导电结构位于内部,避免外部元素的腐蚀,适应稳定好,镀膜均匀性好,自身寿命有保证,过滤器在抽真空时周期,可以保证滤芯外表面的清洁,避免堵塞,且不需要单独外接驱动设备,对真空设备的做功进行充分利用,更加节能,产生的薄膜真身的屏蔽能力好,自身保护完善。 | ||
搜索关键词: | 一种 屏蔽 效能 ito 制造 工艺 及其 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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