[发明专利]一种在碳化硅衬底上外延生长石墨烯的方法及装置有效
申请号: | 202011089251.3 | 申请日: | 2020-10-13 |
公开(公告)号: | CN112522780B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 李帅;刘耀华;冯琳琳;秦莉 | 申请(专利权)人: | 山东天岳先进科技股份有限公司 |
主分类号: | C30B25/10 | 分类号: | C30B25/10;C30B25/12;C30B25/16;C30B25/18;C30B28/14;C30B29/02 |
代理公司: | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人: | 刘德顺 |
地址: | 250118 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供了一种在碳化硅衬底上外延生长石墨烯的方法及装置,该方法包括以下步骤:(1)将碳化硅衬底放入石墨板上,石墨板位于坩埚内,将所述坩埚置于加热炉内;(2)使用电子束将坩埚加热至2000℃以上,加热的时间为5~15min,使碳化硅衬底的表面平整化;(3)控制加热炉的温度为1300~1600℃,使碳化硅衬底表面形成石墨烯层。通过使用电子束加热坩埚,使坩埚的瞬时温度达到2000℃以上,坩埚向内部的碳化硅衬底传递热量,使得碳化硅衬底表面的杂质和部分硅源碳源升华,使其表面平整化,从而改善了石墨烯基层的形成质量,避免了氢气刻蚀带来的晶格缺陷和表面硅元素严重减少的问题,提高了石墨烯的生长质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化硅 衬底 外延 生长 石墨 方法 装置 | ||
【主权项】:
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