[发明专利]一种新型大晶粒ACZTS吸收层的制备方法有效

专利信息
申请号: 202011092523.5 申请日: 2020-10-13
公开(公告)号: CN112301387B 公开(公告)日: 2022-11-01
发明(设计)人: 李微;王延平;毕金莲;王姣;李浩然;王媛 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: C25D3/46 分类号: C25D3/46;C25D5/48;C25D5/54;C23C26/00;H01L31/032
代理公司: 太原倍智知识产权代理事务所(普通合伙) 14111 代理人: 张宏
地址: 300384 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种制备大晶粒ACZTS吸收层的方法,属于薄膜太阳电池技术领域,对镀双层结构Mo背电极的钠钙玻璃衬底进行清洗;用电解质溶液在双层结构的Mo背电极上沉积Ag层并进行超声处理;以(CH3COO)2Cu·H2O、ZnCl2、SnCl2·2H2O、CH4N2S为溶质,以二甲基甲酰胺为溶剂,配置沉积Ag层所需的前驱体溶液;前驱体溶液通过旋涂法在Ag层上制备前驱体薄膜;在N2气氛下,将前驱体薄膜放置在退火炉中进行退火处理,制备大晶粒(Agx,Cu1‑x)2ZnSnS4吸收层。Ag的掺入有利于减少光生载流子的复合几率;改善CZTS薄膜的致密程度和结晶程度,提高了CZTS吸收层在Mo上的附着能力,减少了CZTS吸收层底部的细碎晶粒,减少了界面处晶界的复合程度。
搜索关键词: 一种 新型 晶粒 aczts 吸收 制备 方法
【主权项】:
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