[发明专利]超声波清洗装置、半导体设备及其控制方法在审
| 申请号： | 202011094695.6 | 申请日： | 2020-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN112387695A | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 杨树国;张虎;张明;林立 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;魏艳新 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种超声波清洗装置、半导体设备及其控制方法，涉及半导体加工技术领域，其中，超声波清洗装置包括：超声波发生模块、检测模块和多个并联的超声波换能模块；超声波发生模块分别与供电电源和多个超声波换能模块连接，用于向每个超声波换能模块提供驱动信号；超声波换能模块用于在驱动信号的驱动下发射超声波；检测模块与超声波发生模块连接，用于检测流过超声波发生模块的工作电流，并根据工作电流判断是否存在异常的超声波换能模块；若是，则发出报警信号，报警信号用于提示存在异常的超声波换能模块。本发明可以避免出现由于超声波换能模块发生异常而导致的待清洗件清洗不均匀的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 超声波 清洗 装置 半导体设备 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
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