[发明专利]非易失性存储器件在审

专利信息
申请号: 202011096938.X 申请日: 2020-10-14
公开(公告)号: CN112670288A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 安在昊;黄盛珉;任峻成;康范圭;李相炖 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11529;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11582
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 弋桂芬
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了一种非易失性存储器件,该非易失性存储器件包括:模制结构,该模制结构包括在衬底上的多个栅电极,所述多个栅电极包括顺序地堆叠在衬底上的第一串选择线、第二串选择线和第三串选择线;沟道结构,其穿透模制结构并与每个栅电极相交;第一切割区域,其切割每个栅电极;第二切割区域,其在第一方向上与第一切割区域间隔开,并且切割每个栅电极;第一切割线,其在第一切割区域和第二切割区域之间切割第一串选择线;第二切割线,其在第一切割区域和第二切割区域之间切割第二串选择线;以及第三切割线,其在第一切割区域和第二切割区域之间切割第三串选择线。
搜索关键词: 非易失性存储器
【主权项】:
暂无信息
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