[发明专利]2.5D孔隙结构微流体芯片及其制作和使用方法有效

专利信息
申请号: 202011098551.8 申请日: 2020-10-14
公开(公告)号: CN112275334B 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 胡冉;魏鹳举;廖震;周晨星;郭威;陈旭升;王一凡;武东生;陈益峰 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 朱宏伟
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及2.5D孔隙结构微流体芯片及其制作和使用方法,2.5D孔隙结构微流体芯片包括上部图案层和下部水平基片层,所述上部图案层包括流体注入口、微流体芯片主体图案和排液口,所述微流体芯片主体图案包括桥体和多个间隔设置的圆柱区域,相邻的圆柱区域通过桥体连接,圆柱区域高度为30‑50μm,桥体高度为15‑25μm。本发明2.5D微流体芯片的圆柱区域和桥体错落设置,与传统2D微流体芯片相比,其内部通道是不均匀的,更为贴近真实自然界状况,所得试验数据更有代表性。本发明提出的2.5D孔隙结构微流体芯片的使用方法操作简便、极易上手且应用灵活,能够大幅缩短试验时间,快速分析出所需结果。
搜索关键词: 2.5 孔隙 结构 流体 芯片 及其 制作 使用方法
【主权项】:
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