[发明专利]晶体涂膜元件及其制备方法、晶体膜系有效
| 申请号： | 202011101538.3 | 申请日： | 2020-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN112251137B | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 惠浩浩;雷向阳;杨伟;邓雪然;王天宇;张帅;苏文虎;马红菊;张剑锋;张利平;张清华 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 吕露 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： |
本申请涉及激光材料领域，具体而言，涉及一种晶体涂膜元件及其制备方法、晶体膜系。晶体涂膜元件包括：晶体基底；覆盖于所述晶体基底的匹配膜，所述匹配膜的材料为聚甲基硅氧烷与SiO |
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| 搜索关键词： | 晶体 元件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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