[发明专利]一种GaAs基915nm/976nm大功率双波长激光器外延片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011102155.8 申请日: 2020-10-15
公开(公告)号: CN114374146A 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 赵凯迪;朱振;邓桃 申请(专利权)人: 山东华光光电子股份有限公司
主分类号: H01S5/30 分类号: H01S5/30;H01S5/20;H01S5/04;H01S5/34
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人: 赵龙群
地址: 250101 山东省济*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种GaAs基915nm/976nm大功率双波长激光器外延片及其制备方法,属于光电子技术领域。本发明以CBr4和DETe为P、N型掺杂源构建隧道结的方式将915nm和976nm的两个量子阱外延结构连接起来,双波长的外延结构通过隧道结结合实现在一个外延芯片激发双波长,隧道结通过两个分别具有1E20个原子/cm3及以上掺杂浓度的p型和n型10nm以内的薄层组成,而隧道结的材料采用GaAs,GaAs材料在GaAs基激光器外延结构中不仅作为第一层生长材料也作为最后一层材料,通过GaAs隧道结可以很自然地将915nm和976nm外延结构结合到一起。
搜索关键词: 一种 gaas 915 nm 976 大功率 波长 激光器 外延 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东华光光电子股份有限公司,未经山东华光光电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011102155.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top