[发明专利]一种用于离子注入机大气端和真空端交互的二维开关门装置在审

专利信息
申请号: 202011106153.6 申请日: 2020-10-14
公开(公告)号: CN112289667A 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 朱高伟;王于岳;杜佳伟 申请(专利权)人: 北京烁科中科信电子装备有限公司
主分类号: H01J37/18 分类号: H01J37/18;H01L21/677
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 101111 北京市通*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种用于离子注入机大气端和真空端交互的二维开关门装置,包括片库腔室、片库门组件和二维气缸组件,片库腔室与机台高真空靶室连接,二维气缸组件安置于片库腔室上,片库门组件安置于二维气缸组件上,相对于现有技术,本发明的益处在于只需通过第一方向气缸和第二方向气缸的直接配合即可实现片库门的升降和开合,无需他机构,结构简单且集成度高,而且第一方向气缸和第二方向气缸在同一动力气路控制下可以按顺序实现两个方向的伸出或缩回动作,精简了动力气路,提高了片库开关门的效率和成功率。
搜索关键词: 一种 用于 离子 注入 大气 真空 交互 二维 开关 装置
【主权项】:
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