[发明专利]涂抹标本制作装置及装置中染色槽的清洗方法在审
| 申请号： | 202011108568.7 | 申请日： | 2020-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN112676283A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 生田纯也;中西利志;原田优吾;品部诚也 | 申请（专利权）人： | 希森美康株式会社 |
| 主分类号： | B08B9/08 | 分类号： | B08B9/08;G01N1/30 |
| 代理公司： | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人： | 杨永波 |
| 地址： | 日本兵库县神户市*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明按照涂抹标本制作装置的情况对染色槽执行适当的清洗处理。该清洗方法是具有染色槽（20）的涂抹标本制作装置（100）的染色槽（20）的清洗方法，染色槽（20）能够收纳涂抹有样本的载玻片（11），并储存对载玻片（11）上涂抹的样本进行染色的染色液（91）来进行染色处理，该清洗方法具备以下工序：接收清洗条件相关信息的工序、按照接收的清洗条件相关信息对染色槽（20）执行清洗作业的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 涂抹 标本 制作 装置 染色 清洗 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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