[发明专利]对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置在审
申请号: | 202011109927.0 | 申请日: | 2020-10-16 |
公开(公告)号: | CN113299588A | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 朴锺范 | 申请(专利权)人: | PSK控股公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/687 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 阚梓瑄 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置。对准装置可以包括:支撑模块,在不同高度支撑各个对象物;以及对准模块,对准由所述支撑模块支撑的对象物,所述对准模块可以包括:第一对准部,对准作为所述对象物中的一个的第一对象物;第二对准部,对准作为所述对象物中的一个且与所述第一对象物不同的第二对象物;以及驱动部,使所述第一对准部和所述第二对准部同时移动。 | ||
搜索关键词: | 对准 装置 以及 包括 处理 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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