[发明专利]一种光致增强型量子点膜的制作方法在审

专利信息
申请号: 202011130712.7 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN112226228A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 罗培栋;缪燃;王立超 申请(专利权)人: 宁波东旭成新材料科技有限公司
主分类号: C09K11/02 分类号: C09K11/02;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 慈溪方升专利代理事务所(普通合伙) 33292 代理人: 严晓
地址: 315321 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种光致增强型量子点膜的制作方法,包括如此下步骤:S1:提供量子点基膜,该量子点基膜为含有量子点的丙烯酸树脂膜;S2:在所述量子点基膜上涂敷微米级二氧化硅粒子层;S3:在所述量子点基膜上涂布丙烯酸酯胶水;S4:对所述量子点基膜进行电子束处理。基膜表面分散的二氧化硅微球,可以有效的发生全内反射,从而提高量子点基膜光致发光效率。同时该量子点膜具有优异的隔绝水氧和耐磨的性能。
搜索关键词: 一种 增强 量子 制作方法
【主权项】:
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