[发明专利]光罩防护薄膜表面上的污染颗粒去除方法在审

专利信息
申请号: 202011132115.8 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN112230511A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 刘向南;刘小虎 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G03F1/82 分类号: G03F1/82;B08B5/04;B08B13/00
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭四华
地址: 201315 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种光罩防护薄膜表面上的污染颗粒去除方法,包括步骤:步骤一、采用显微镜在光罩的防护薄膜表面上找到污染颗粒。步骤二、将真空吸管和污染颗粒接触。步骤三、开启真空将所接触的污染颗粒去除,防止在去除过程中污染颗粒在防护薄膜表面产生移动并实现对污染颗粒的有效去除。本发明能提高光罩防护薄膜表面上的污染颗粒去除效果,且能防止产生污染颗粒物的印记残留和防止光罩二次污染。
搜索关键词: 防护 薄膜 表面上 污染 颗粒 去除 方法
【主权项】:
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