[发明专利]一种MOCVD装置及其托盘有效
申请号: | 202011138297.X | 申请日: | 2020-10-22 |
公开(公告)号: | CN112267103B | 公开(公告)日: | 2022-08-26 |
发明(设计)人: | 罗轶;张健;郭庆霞;易斌 | 申请(专利权)人: | 北京创盈光电医疗科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 韩静粉 |
地址: | 100176 北京市北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种MOCVD装置及其托盘,用于放置衬底,其特征在于,包括:托盘主体,所述托盘主体具有锥形安装孔;托盘组件,所述托盘组件用于与所述衬底的底面贴合,所述托盘组件能够与所述托盘主体的锥形安装孔配合且能够沿所述锥形安装孔的轴向移动,在所述托盘组件相对于所述托盘主体移动过程中能够使所述衬底的底面外露。在取放衬底过程中,可保证衬底的底面外露,通过接触衬底的底面实现取放,不需要接触衬底的正面,保证了衬底的正面的质量;此外,通过移动托盘组件则不需要在托盘上开设孔位,保证了托盘内温度的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 mocvd 装置 及其 托盘 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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