[发明专利]一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 202011138914.6 | 申请日： | 2020-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN112230321B | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 刘东青;程海峰 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G02B5/22 | 分类号： | G02B5/22;G02B5/20 |
| 代理公司： | 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 | 代理人： | 邱轶 |
| 地址： | 410073 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层，是一种氧化物涂层，采用氧化铈、氧化铝、氧化锆、氧化钇、氧化镁、氧化钡、氧化锶、碳化硅、氮化硅中的两种或多种组合制备得到选择性辐射红外隐身涂层。本发明还提供所述的一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层的制备方法，通过等离子喷涂或者丝网印刷工艺制备涂层，通过不同氧化物材料复合、不同温度处理调控其红外光谱的发射特征，实现在3.0μm‑5.0μm波段低发射率，5.0μm‑25.0μm波段高发射率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耐高温 光谱 选择性 红外 隐身 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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