[发明专利]一种去磨纹的硅蚀刻液有效
| 申请号： | 202011139447.9 | 申请日： | 2020-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN112251233B | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 万杨阳;郝晓斌;贺兆波;尹印;张庭;冯凯;王书萍;张演哲;钟昌东;李鑫;蔡步林 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;C09K13/08;C23F1/24 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种去磨纹的硅蚀刻液。该蚀刻液由硝酸、硝酸羟胺、氟磺酸、二氟化氢铵、二氟化氙、硫酸、增稠剂和去离子水组成。其中增稠剂可以是聚丙烯酰胺、己醇、辛醇、聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮等中的任意一种。本发明中硝酸羟胺与氟磺酸反应生成氢氟酸，二氟化氙在酸性环境下缓慢分解生成氢氟酸，均增加蚀刻液组合物中的氢氟酸的浓度，能够抑制上述蚀刻液组合物的经时变化，维持稳定的蚀刻速率。本发明的去磨纹蚀刻液能够直接用于磨片的背面打毛工艺，蚀刻掉较深的机械磨纹，省略了抛光去磨纹工序，节约了成本，提高生产效率，同时也能维持稳定的蚀刻寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去磨纹 蚀刻 | ||
【主权项】：
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