[发明专利]一种稳定六方氮化硼(h-BN)高比表面积的方法及其应用在审

专利信息
申请号: 202011153965.6 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112403502A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 林敬东;关健;许明亮;田金树;钱姝雅;张朝霞 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: B01J27/24 分类号: B01J27/24;B01J35/10;B01J37/08;C07C5/48;C07C11/06
代理公司: 北京彭丽芳知识产权代理有限公司 11407 代理人: 彭丽芳
地址: 361005 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种稳定六方氮化硼(h‑BN)高比表面积的方法及其应用,该方法包括以下步骤:将金属源和h‑BN加入到溶剂中进行溶解处理,然后加热去除溶剂,将所得固体干燥后进行高温热处理,随后通入空气即可。本发明所制备的h‑BN催化剂中镍的负载量按重量比为5%~30%;比表面积为500~1000m2/g。本发明通过采用金属离子占据h‑BN缺陷位的方法来提高h‑BN在高温氧化条件下的结构稳定性并维持其高比表面积。通过本发明所提供的方法制备的高比表面积金属离子修饰h‑BN与市场商业化h‑BN相比具有较高的比表面积,因此将通过本发明所提供的方法制备的h‑BN应用于丙烷氧化催化反应中可以暴露出更多的活性中心,从而提高催化反应活性,也可作为一种高稳定性的高比表面积催化剂载体。
搜索关键词: 一种 稳定 氮化 bn 表面积 方法 及其 应用
【主权项】:
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