[发明专利]降低表面缺陷的垂直液相外延碲镉汞薄膜用石墨舟及用途有效
| 申请号： | 202011156081.6 | 申请日： | 2020-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN114481304B | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 张阳;吴军;孔金丞;杨进宝;李沛;万志远;木胜;王宇婷;龙云富;方东;姬荣斌 | 申请（专利权）人： | 昆明物理研究所 |
| 主分类号： | C30B19/06 | 分类号： | C30B19/06;C30B29/46 |
| 代理公司： | 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 | 代理人： | 赛晓刚 |
| 地址： | 650221 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种降低表面缺陷的垂直液相外延碲镉汞薄膜用石墨舟及用途，包括带有楔形槽的石墨舟主体、楔形衬底承载件及固定螺栓；石墨舟主体为一正多面体，其前后左右四个面均设置有楔形槽，该楔形槽用于供楔形衬底承载件插入；楔形衬底承载件包括CZT衬底、能够卯合的底层夹片和上层夹片及固定螺栓，衬底装入底层夹片，用上层夹片卯合的底层夹片并固定衬底，再通过固定螺栓锁紧已卯合的两层夹片，构成楔形衬底承载件。在石墨舟主体的顶部还设置用于疏导其上层的母液的疏导伞。该装置通过卯合的夹片结构可以实现插拔式的装舟和取片过程，提高工作效率。本发明可获得无析晶缺陷的碲镉汞薄膜，同时降低取片、装舟过程的操作难度，提高了效率。 | ||
| 搜索关键词： | 降低 表面 缺陷 垂直 外延 碲镉汞 薄膜 石墨 用途 | ||
【主权项】：
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