[发明专利]半导体生产加工用废水处理装置在审
| 申请号： | 202011161583.8 | 申请日： | 2020-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN112358082A | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 常瑛超 | 申请（专利权）人： | 常瑛超 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04;C02F101/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518048 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了半导体生产加工用废水处理装置，包括初步滤渣组件、二次传输管、反应除害组件、浮沫去除组件、输入管以及沉淀筒，所述沉淀筒上侧设置有初步滤渣组件，所述沉淀筒右侧连接有输入管，所述输入管远离沉淀筒一端设置有反应除害组件，所述反应除害组件上侧连接有二次传输管，所述二次传输管远离反应除害组件一侧设置有浮沫去除组件，所述初步滤渣组件包括固定柱、滤渣盘、清扫刷、过滤网、滤布以及对接柱，所述沉淀筒顶部可拆卸插接有对接柱，所述对接柱远离沉淀筒一端固定有滤渣盘。本发明采用使用石灰粉与硫酸铝产生的氢氧化铝沉淀吸附氟离子，中和降解氟离子减少对人体的伤害以及对环境的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 生产 工用 废水处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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