[发明专利]离子植入机毒性气体输送系统及其输送方法在审

专利信息
申请号: 202011163444.9 申请日: 2020-10-27
公开(公告)号: CN113053711A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 蒙英傑;彭垂亚;林诗豪 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01J37/244 分类号: H01J37/244;H01J37/317;H01L21/67
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本揭露提供一种离子植入机毒性气体输送系统及其输送方法。离子植入系统包括离子植入机、掺杂剂源气体供应系统以及监控系统。离子植入机位于机壳内,且包括离子源单元。掺杂剂源气体供应系统包括位于气体机壳外的第一及第二掺杂剂源气体储存缸,配置为向离子源单元提供掺杂剂源气体,且第一及第二掺杂剂源气体供应管分别与第一及第二掺杂剂源气体储存缸耦接。第一及第二掺杂剂源气体供应管皆包括内管及包围内管的外管。监控系统与分别第一及第二掺杂剂源气体供应管的外管耦接。
搜索关键词: 离子 植入 毒性 气体 输送 系统 及其 方法
【主权项】:
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