[发明专利]硅片表面绒面结构的制备方法

摘要

本发明提供了一种硅片表面绒面结构的制备方法，包括：提供硅片，对所述硅片的表面进行无掩膜刻蚀和/或无掩膜离子注入的前处理，使所述硅片的表面变粗糙；将变粗糙的所述硅片表面进行碱制绒，以在变粗糙的所述硅片表面形成金字塔绒面结构。通过对硅片进行前处理，使硅片表面变得粗糙，利于后续碱制绒工序，以在变粗糙的所述硅片表面形成更多的金字塔绒面结构；通过碱制绒，碱法刻蚀的各向异性刻蚀，最终在变粗糙的所述硅片的表面形成金字塔绒面结构。本发明的方法不需要掩膜，简化工艺，形成均匀的绒面结构，制备的“金字塔”结构数量多，吸光效果好，适用于大规模量产。