[发明专利]一种EITZO靶材及其制备方法在审
| 申请号： | 202011167576.9 | 申请日： | 2020-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN112266234A | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 刘文杰;钟小华;童培云;朱刘 | 申请（专利权）人： | 先导薄膜材料（广东）有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/01 | 分类号： | C04B35/01;C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 颜希文;王朝毅 |
| 地址： | 511517 广东省清*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种EITZO靶材，所述EITZO靶材包括氧化金属组合物，所述EITZO靶材包括氧化金属组合物，所述氧化金属组合物包括以组分：氧化铟、氧化锡、氧化铒和氧化锌；所述氧化铒占所述氧化金属组合物的5％～10％；所述EITZO靶材的制备过程包括：将所述氧化金属组合物压胚成型后烧结。本发明的EITZO靶材将氧化铟、氧化锡、氧化铒和氧化锌搭配，经成型烧结得到EITZO靶材显著的提高了EITZO靶材镀膜后的迁移率，提高了分辨率，并且降低了EITZO靶材的晶粒尺寸。本发明的EITZO靶材在控制低成本的前提下提高了EITZO靶材镀膜后的迁移率，提高了分辨率，并且降低了EITZO靶材的晶粒尺寸，提高了EITZO靶材的相对密度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 eitzo 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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