[发明专利]一种硼掺杂氧化镍/氢氧化镍电极材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 202011171818.1 申请日: 2020-10-28
公开(公告)号: CN112331491A 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 张轲;周岩;曹中秋;王艳 申请(专利权)人: 沈阳师范大学
主分类号: H01G11/86 分类号: H01G11/86;H01G11/24;H01G11/46;H01G11/30;C23C18/34;C25D11/34
代理公司: 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人: 甄玉荃
地址: 110034 辽宁省沈*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开了一种硼掺杂氧化镍/氢氧化镍电极材料的制备方法,包括如下步骤:1)铜片表面预处理;2)在铜片表面化学镀NiB薄膜;3)采用原位电化学阳极氧化的方法处理镀膜后的铜片,得到B掺杂的NiO/Ni(OH)2(B)电极材料。本发明针对现有的NiO/Ni(OH)2电极材料的制备路线的缺点,提出了在0.1mm铜片柔性材料表面先化学镀NiB再电化学阳极氧化制备工艺路线,得到了一种简单易行、B掺杂量大、可控性良好的NiO/Ni(OH)2(B)电极材料的制备工艺,提高了制备出的NiO/Ni(OH)2电极材料电容性能和电化学稳定性,且该工艺方法有利于NiO/Ni(OH)2电极材料的商业应用和工业化生产。
搜索关键词: 一种 掺杂 氧化 氢氧化 电极 材料 制备 方法
【主权项】:
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