[发明专利]暴露高能晶面二氧化铈光催化剂的制备在审
申请号: | 202011177441.0 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN112169785A | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 刘建军;刘文琦;左胜利 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
主分类号: | B01J23/10 | 分类号: | B01J23/10;B01J35/02;B01J35/08;C01F17/235;C02F1/30;C02F101/38 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明涉及一种暴露高能晶面二氧化铈光催化剂的制备方法。本发明通过简单的水热合成方法,通过控制反应条件制备了纳米球形、纳米立方和纳米棒状等不同形貌和晶面暴露的CeO |
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搜索关键词: | 暴露 高能 晶面二 氧化 光催化剂 制备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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