[发明专利]交联度可被调节的抛光垫及其制备方法有效
| 申请号： | 202011179552.5 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112745472B | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 尹钟旭;郑恩先;徐章源 | 申请（专利权）人： | SKC索密思株式会社 |
| 主分类号： | C08G18/66 | 分类号： | C08G18/66;C08G18/48;C08G18/32;C08G18/12;C08J9/04;C08J9/30;B24B37/24;H01L21/306;H01L21/67;C08L75/08 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种交联度可被调节的抛光垫及其制备方法。根据一个实施方案的抛光垫包含多官能团的低分子量化合物作为构成抛光层的聚氨酯类树脂的聚合单元之一，从而在生产过程中减少了未反应的二异氰酸酯单体，从而提高了可加工性和质量，并增加交联度。因此，可以将抛光垫应用于包含CMP工艺的半导体器件的制备工艺中，以提供具有优良品质的半导体器件，例如晶圆。 | ||
| 搜索关键词： | 交联 度可被 调节 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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