[发明专利]真空紫外光内电离质谱分析装置及质谱分析方法在审
| 申请号： | 202011181340.0 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112259440A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 蒋公羽;戴梦杰;陈延龙;陈元;姚如娇;沈辉;景加荣;侍尉;刘宇峰 | 申请（专利权）人： | 上海裕达实业有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/42 | 分类号： | H01J49/42;H01J49/04;H01J49/14 |
| 代理公司： | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人： | 李佳俊;郭国中 |
| 地址： | 200245 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种真空紫外光内电离质谱分析装置及质谱分析方法，包括：紫外光源、质量分析器、光束调节部件、分析样品以及控制器；所述紫外光源能够对分析样品进行单光子电离；所述质量分析器能够在内部进行从分析样品电离到离子质量分离的完整质谱工作时序；所述质量分析器开有光源引入口；所述光束调节部件设置于光源引入口的上游；所述控制器能够同步控制质量分析器的工作时序阶段与所述光束调节部件调制量；本发明采用简单阀门或光调制结构，可在真空紫外光电离质谱分析中使用高灵敏度的内电离分析模式，同时避免传统连续紫外光源电离法造成的底噪信号干扰。可提高分析检测限约2‑3个数量级。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 紫外光 电离 谱分析 装置 方法 | ||
【主权项】：
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