[发明专利]透射电子显微镜样品及其制备方法在审
| 申请号： | 202011187704.6 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112147373A | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 宋箭叶 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01Q30/20 | 分类号： | G01Q30/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种透射电子显微镜样品及其制备方法，通过提取半导体器件的部分至样品载体上，以形成初始样品，所述初始样品中靠近所述样品载体的部分在第一方向上的宽度与远离所述样品载体的部分在第一方向上的宽度相同；对所述初始样品进行减薄处理，以形成观测样品，所述观测样品中靠近所述样品载体的部分在第一方向上的宽度大于远离所述样品载体的部分在第一方向上的宽度。由于形成的所述观测样品中靠近所述样品载体的部分在第一方向上的宽度大于远离所述样品载体的部分在第一方向上的宽度，由此，所述观测样品中靠近所述样品载体的部分具有支撑的作用，可以避免观测样品的形变，从而解决透射电子显微镜样品在形成过程中发生形变的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 透射 电子显微镜 样品 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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