[发明专利]具有鳍式场效应晶体管结构的分裂栅非易失性存储器单元、HV和逻辑器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202011193113.X 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN114446972A 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 宋国祥;王春明;邢精成;X·刘;N·多 申请(专利权)人: 硅存储技术股份有限公司
主分类号: H01L27/11521 分类号: H01L27/11521;H01L27/11526;H01L27/11531;H01L29/423;H01L29/788;H01L21/336
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈斌
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明题为具有鳍式场效应晶体管结构的分裂栅非易失性存储器单元、HV和逻辑器件及其制造方法。本发明公开了一种在半导体衬底的上表面的鳍上形成存储器单元、高压器件和逻辑器件的方法,以及由此形成的存储器器件。存储器单元形成在一对鳍上,其中浮栅设置在该对鳍之间,字线栅围绕在该对鳍周围,控制栅设置在该浮栅上方,并且擦除栅设置在该对鳍上方并部分地设置在该浮栅上方。高压器件包括围绕在相应鳍周围的HV栅,并且逻辑器件包括逻辑栅,该逻辑栅为金属并围绕在相应的鳍周围。
搜索关键词: 具有 场效应 晶体管 结构 分裂 非易失性存储器 单元 hv 逻辑 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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