[发明专利]一种选择性发射极电池的碱抛光制造方法在审

专利信息
申请号: 202011193980.3 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112466986A 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 颜长;张双玉;刘银生;乐雄英;陆祥;陈如龙;陶龙忠;杨灼坚 申请(专利权)人: 江苏润阳悦达光伏科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0216;H01L31/042
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 224000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供的一种选择性发射极电池的碱抛光制造方法,包括:对硅片进行制绒及扩散;硅片的正面在外置含扩散掺杂源的SiO2膜薄保护下形成重掺杂区域;利用酸性溶液去除硅片背面的硅磷玻璃并利用碱性溶液抛光;利用酸性溶液去除硅片正面的硅磷玻璃;依次在硅片的背面沉积氧化铝膜、在硅片的正面沉积氮化硅减反射膜及在硅片的背面沉积氮化硅保护膜;利用激光去除硅片背面指定区域的叠层膜;印刷硅片两面的电极并烧结。该方法充分利用外置含扩散掺杂源的SiO2膜薄作为缓冲层,在激光选择性重掺时,保护此区域的原有氧化层不被破坏,进而保持重掺杂区域的性能稳定;采用碱液进一步减少表面悬挂键密度,实现良好的背抛光,进而提升电池性能。
搜索关键词: 一种 选择性 发射极 电池 抛光 制造 方法
【主权项】:
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