[发明专利]低平坦度晶圆激光加工吸附装置及其方法在审

专利信息
申请号: 202011194796.0 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112439998A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 杨军伟;宋华平;陈蛟;黄敏 申请(专利权)人: 松山湖材料实验室
主分类号: B23K26/352 分类号: B23K26/352;H01L21/268
代理公司: 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 代理人: 陈培琼
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种低平坦度晶圆激光加工吸附装置及其方法,吸附装置包括吸盘、气体吹扫装置、真空发生器、电源和冷却器。所述吸盘设有加热装置,用于对晶圆进行吸附和加热;所述气体吹扫装置用于对激光加工后的晶圆进行气体吹扫降温;所述真空发生器用于连接吸盘,使吸盘产生负压吸附晶圆;所述电源用于为加热装置提供电能。本发明在晶圆的激光加工工序中进行高温处理,使得低平坦度晶圆在受到局部加工时内应力不会被急剧释放,避免了低平坦度晶圆在激光加工过程中出现裂片的严重问题。相比于传统的单纯真空吸附固定方式,有效降低激光加工低平坦度晶圆的裂片率,提高晶圆的激光加工质量和良率,利于广泛推广应用。
搜索关键词: 平坦 度晶圆 激光 加工 吸附 装置 及其 方法
【主权项】:
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