[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 202011195950.6 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN114460782B | 公开（公告）日： | 2023-10-20 |
| 发明（设计）人： | 王继国;孙建;刘建涛;杨小艳 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于改善亮点(或暗点)不良现象。阵列基板包括第一衬底；沿第一方向延伸的栅线和沿第二方向延伸的数据线；薄膜晶体管；反射电极。第一方向和第二方向相交，栅线和数据线限定出子像素区域。一个薄膜晶体管位于一个子像素区域。一个反射电极位于一个子像素区域，反射电极与位于同一子像素区域的薄膜晶体管电连接。反射电极的边界包括：沿第一方向延伸的第一子边界，沿第二方向延伸的第二子边界，连接相邻第一子边界和第二子边界的倒角边界；相邻第一子边界和第二子边界的延长线的交点位于反射电极的边界外。本公开实施例提供的阵列基板及其制备方法、显示装置用于显示。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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