[发明专利]光学测定方法和处理装置在审
| 申请号： | 202011196495.1 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112747902A | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 三岛俊介;大岛浩正 | 申请（专利权）人： | 大塚电子株式会社 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01J1/42 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学测定方法和处理装置。光学测定方法包括以下步骤：获取已被赋予针对第一波长范围的光谱辐射照度的值的第一标准灯的第一检测结果；获取已被赋予针对至少一部分波长范围与第一波长范围重复的第二波长范围的光谱辐射照度的值的第二标准灯的第二检测结果；计算关于第一波长范围与第二波长范围重复的波长范围的波长的校准系数的校正值；至少基于第一校准系数和校正值来决定第三校准系数；获取第三标准灯的第三检测结果；以及基于第三检测结果和第三校准系数，来对第三标准灯赋予测光量的值。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测定 方法 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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