[发明专利]一种无基体偏压下获得的刚玉和立方结构三氧化二铝铬混合相涂层及其制备方法有效
申请号: | 202011198043.7 | 申请日: | 2020-10-30 |
公开(公告)号: | CN112239855B | 公开(公告)日: | 2023-02-14 |
发明(设计)人: | 杜昊;施杰;张泽;戴厚富 | 申请(专利权)人: | 贵州大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/02 |
代理公司: | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人: | 胡绪东 |
地址: | 550025 贵州省贵*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: |
本发明公开了一种无基体偏压下获得的刚玉和立方结构三氧化二铝铬混合相涂层及其制备方法,属于涂层技术领域,刚玉和立方结构三氧化二铝铬混合相涂层使用双极高能脉冲磁控溅射沉积获得,涂层包括一种α‑(Al,Cr) |
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搜索关键词: | 一种 基体 偏压 获得 刚玉 立方 结构 氧化 二铝铬 混合 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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